第211章 光刻机（2/2）
而两个工作平台是同时移动的，这样可以提高芯片的成品率，但是对设备要求非常高。
当然啦，光刻机不仅仅机械精密要求高，而且对于光源的要求也是非常高，里边儿蕴含着光学系统也是无比的复杂。
光刻机的光源有d，也有.
所谓的也就是极紫外光。
光刻机里面用极紫外光的，光刻机被称作光刻机，可以说这是世界上最先进的光刻机，能生产五纳米乃至三纳米的芯片，掌握这种技术的仅仅只有米国一个国家。
我们国家也可以生产光刻机，但是精密度却没有那么高，我们自己生产的光刻机。被称作600系列光刻机。
它可以生产90纳米的芯片，是长城电子设备公司制造出来的，而外国的高科技也能生产五纳米的芯片了。
两者相比较，我们可以看出双方之间的差距来还是非常大的，这可不仅仅是一代的差距。是数代的差距。
要知道光刻机的精密度90纳米是一个难关，过了这难关之后，将密度进一步提升是非常容易的，前面一路舒坦。一直到45纳米才会遇见关卡。
过了45纳米这一关之后，下一关就是22纳米了……
后边还有很多关卡，我们自己制造的光刻机仅仅能制造90纳米的芯片，不过我们通过购买国外淘汰的光刻机，现在我们的中芯国际可以制造14纳米的芯片了。
事实就是这样，国外永远不会卖给我们最先进的东西。
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